硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理工藝條件及要求

• 來(lái)源：原創(chuàng)更新時(shí)間：2015-10-19點(diǎn)擊：1549次
• 　　硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理采用直流電源或直流和交流疊加電源。其溶液種類(lèi)也較多，以采用硫酸硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理較普遍。
  　　采用硫酸硬質(zhì)陽(yáng)極氧化法時(shí)，應(yīng)考慮影響氧化膜層的各因素。
  　　(1)硫酸氧化處理的濃度：常采用200～250g／L，槽液的相對(duì)密度(室溫下)為1．12～1．15。
  　　(2)水：水是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的主要成分，一般采用蒸餾水或冷開(kāi)水，而不用自來(lái)水，因?yàn)樽詠?lái)水中含有氯離子，當(dāng)Cl一>1％時(shí)，其制件在氧化過(guò)程中就會(huì)腐蝕，并出現(xiàn)白斑。
  　　(3)氧化處理的溫度：溫度是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一。嚴(yán)格控制溫度，其氧化膜增厚，硬度提高且光滑、致密。
  　　(4)電流密度：電流也是影響氧化膜質(zhì)量的重要因素之一，它與氧化膜的生成速度、氧化膜的組織有較大關(guān)系。電流密度過(guò)低時(shí)，氧化膜的生成速度緩慢，處理時(shí)間增加；反之，過(guò)高時(shí)，會(huì)導(dǎo)致溶液和電極因焦耳效應(yīng)而過(guò)熱，使氧化膜溶解速度增加，硬度下降，表面粗糙、疏松起粉。
  　　(5)初始電壓與處理時(shí)間：硬質(zhì)陽(yáng)極氧化處理的初始電壓與時(shí)間對(duì)氧化膜質(zhì)量的影響也是很大的。初始的電壓過(guò)大，會(huì)導(dǎo)致電流的增加，焦耳熱和生成熱劇增，促使溶解速度猛增，氧化膜則軟，無(wú)光澤，起粉，不耐磨。
  　　對(duì)于氧化處理時(shí)間，一般是隨著氧化處理時(shí)間的延長(zhǎng)，氧化膜厚度增加，但到一定時(shí)間后，若不增加外加電壓，氧化膜實(shí)際不增加。如果繼續(xù)延長(zhǎng)時(shí)間，則氧化膜硬度低，疏松起粉。相反，氧化處理時(shí)間太短，氧化膜厚度薄且不耐磨。
  　　(6)氧化處理溶液的攪拌：攪拌速度大小與氧化膜生成速度(氧化膜質(zhì)量)有關(guān)。